硅晶片真空烤箱 試驗(yàn)箱
更新時(shí)間：2023-02-14
硅晶片真空烤箱，可以控制烘烤溫度，控制烘烤時(shí)間，以及控制烘烤空氣流動(dòng)，從而達(dá)到更好的烘烤效果。
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一、硅晶片真空烤箱工作原理
在真空狀態(tài)下，烤箱內(nèi)的空氣被抽出，從而使烤箱內(nèi)的溫度降低，從而達(dá)到更高的烘烤效果。此外，真空烤箱還可以控制烘烤溫度、控制烘烤時(shí)間、控制烘烤空氣流動(dòng)等，從而達(dá)到更好的烘烤效果。
二、硅晶片真空烤箱箱體規(guī)格
規(guī)格型號(hào) | 內(nèi)箱尺寸（W*H*Dmm） | 外箱尺寸（W*H*Dmm） | 真空泵 | 電源 |
HE-WD-300 | 300*300*300 | 1000*1580*920 | 4升 | AC 220V 50Hz 3.5KW |
HE-WD-400 | 400*400*400 | 1000*1580*920 | 4升 | AC 220V 50Hz 4.5KW |
HE-WD-500 | 500*500*500 | 1000*1580*920 | 4升 | AC 220V 50Hz 5.5KW |
HE-WD-600 | 600*600*600 | 1000*1580*920 | 4升 | AC 380V 50Hz 9KW |
HE-WD-700 | 700*700*700 | 1000*1580*920 | 8升 | AC 380V 50Hz 12KW |
HE-WD-800 | 800*800*800 | 1100*1680*1050 | 8升 | AC 380V 50Hz 15KW |
HE-WD-1000 | 1000*1000*1000 | 1350*1620*1300 | 8升 | AC 380V 50Hz 20KW |
箱體結(jié)構(gòu)：連體式，真空泵置于機(jī)臺(tái)下部；
隔層：內(nèi)分二層，配網(wǎng)板二塊，可活動(dòng)抽出；
面板安裝：控制面板安裝于機(jī)臺(tái)下方（如設(shè)備外觀圖）；
開(kāi)門(mén)方式：?jiǎn)斡捎抑磷箝_(kāi)啟;
可視窗：門(mén)上帶可視窗，規(guī)格W250×H300mm；
內(nèi)箱材料為：304#不銹鋼工業(yè)板；內(nèi)箱加強(qiáng)處理，抽真空不變形；
外箱材料為：冷軋鋼板,厚1.2mm,表面烤漆處理；
保溫材質(zhì)為：耐高溫巖棉，保溫層厚100mm，保溫效果好；
安裝帶剎車(chē)活動(dòng)腳輪，可任意推動(dòng)；
三、控溫系統(tǒng)
溫度范圍：常溫+30℃～200℃
控制精度：±0.5℃
顯示精度：0.1℃
箱內(nèi)溫度均勻度：±5℃%(無(wú)真空時(shí)，空箱測(cè)試)
升溫速率：RT→100℃（約30分鐘），200℃（約45分鐘）
四、真空系統(tǒng)
真空度：0～-101KPa
真空保壓泄漏率：約0.8KPa每小時(shí)
采用高密封性的硅膠密封條保障整機(jī)的密封性；
采用數(shù)顯示式真空表直接顯示內(nèi)箱真空度，讓你即時(shí)了解箱體內(nèi)的真空狀態(tài)，真空度達(dá)到0－-0.1Mpa (即:100pa真空度)
五、充氮?dú)庋b置
1、調(diào)壓閥：控制氮?dú)鈮毫?，正常使用下氮?dú)鈮毫φ{(diào)為2.5公斤左右；
2、面板流量計(jì)：控制氮?dú)膺M(jìn)入箱內(nèi)的大小，量程為10L/min-60Lmin；
3、氮?dú)夤艿肋M(jìn)入到箱內(nèi)正后面，調(diào)壓閥處預(yù)留8mm快插氣管接口；
4、注：氮?dú)庥捎脩糇詡洹?/span>
