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      HE- WDN2-125真空充氮烤箱適用于哪些產品?

      發布日期:2024-08-02      點擊:727

      真空充氮烤箱,作為一種先進的熱處理設備,其工作原理與廣泛的應用領域,在現代工業生產中占據著舉足輕重的地位。該設備通過創建一個低氧甚至無氧的環境,利用氮氣作為保護氣體,有效避免了產品在高溫處理過程中因氧化而導致的品質下降、顏色變化及性能損失。下面,我們將深入探討真空充氮烤箱適用于哪些類型的產品,以及它在這些產品加工中的重要作用。

      真空充氮烤箱0.jpg

       一、電子元器件

      在電子元器件制造業中,真空充氮烤箱的應用極為廣泛。電子元器件如集成電路、電容器、電阻器等,在制造過程中往往需要經歷高溫烘烤以去除內部濕氣、揮發物及改善材料性能。然而,這些精密元件對氧氣極為敏感,一旦暴露在高溫有氧環境中,極易發生氧化反應,導致性能下降甚至失效。因此,采用真空充氮烤箱進行烘烤處理,能夠確保元器件在純凈的氮氣環境中完成熱處理,有效防止氧化,保證產品質量。

      真空充氮烤箱.png

       二、金屬材料與合金

      金屬材料與合金的退火、淬火、回火等熱處理工藝中,真空充氮烤箱同樣發揮著不可替代的作用。對于某些特殊金屬材料,如鈦合金、不銹鋼等,在高溫處理時極易與空氣中的氧氣發生反應,生成氧化物層,影響材料的表面光潔度和后續加工性能。通過真空充氮烤箱處理,可以創造一個無氧或低氧環境,有效防止氧化反應的發生,使金屬材料在熱處理后仍保持優良的物理性能和表面質量。

       三、食品與藥品包裝

      在食品與藥品行業中,真空充氮包裝技術已得到廣泛應用,而真空充氮烤箱則是這一技術實現的關鍵設備之一。食品與藥品在包裝前,通過真空充氮烤箱進行烘烤處理,可以去除包裝材料內的水分和揮發性雜質,提高包裝材料的密封性和阻隔性。同時,在氮氣保護下,還可以有效抑制微生物的生長,延長食品與藥品的保質期。此外,對于某些需要保持特定顏色和風味的食品,真空充氮烤箱還能減少因高溫氧化而導致的品質變化。

       四、光學材料與鏡片

      光學材料與鏡片對表面質量要求,任何微小的瑕疵都可能影響其光學性能。在制造過程中,這些材料往往需要經過清洗、烘干等步驟。傳統的高溫烘烤方法容易使材料表面氧化,影響透光性和清晰度。而真空充氮烤箱則能在無氧環境下進行烘烤,避免氧化問題,同時通過精確控制溫度和時間,確保材料表面干燥且光潔度達到要求。

       五、精密儀器與零部件

      精密儀器與零部件,如精密軸承、光學儀器部件等,對加工精度和表面質量有著的要求。這些產品在制造過程中需要經過多道工序,高溫有氧環境容易對精密零部件造成氧化損傷,影響其精度和使用壽命。采用真空充氮烤箱進行熱處理,可以有效避免這一問題,保證零部件在高溫處理后的尺寸穩定性和表面質量。

       六、其他應用領域

      除了上述領域外,真空充氮烤箱還廣泛應用于航空航天、汽車制造、新能源材料等多個行業。在航空航天領域,它用于處理對氧化極為敏感的航天器部件;在汽車制造中,則用于提升汽車零部件的耐腐蝕性和耐久性;在新能源材料領域,如鋰離子電池的生產中,真空充氮烤箱也發揮著關鍵作用,確保電池材料在熱處理過程中不受氧化影響,提高電池的性能和安全性。

      七、真空充氮烤箱的技術參數

      規格型號: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

      內箱尺寸(cm) 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

      外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

      總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

      使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ

      溫度偏差: ±3% ±5% ±8%

      真空泵: 4升 8升

      溫度范圍(選擇)

       RT+10℃~200

      □ RT+10℃~250℃

      □ RT+20℃~300℃

      真空度范圍: 0-100KPa

      控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制

      結構: 一體式結構(內置真空泵)或分體式(外置真空泵)

      內箱材質: SUS304#不銹鋼

      外箱材質: SECC鋼板高級烤漆處理

      充氮氣裝置: 1)氮氣壓力范圍:34Kg左右;

      2)流量計:量程為10L/min-100Lmin

      3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;

      4)充氮控制方式:采用時間自動控制或手動控制;

      5)排氣閥:充氮氣的同時打開排氣閥,防止箱內高壓;

      6)氮氣:氮氣源用戶自備。


      綜上所述,真空充氮烤箱以其優勢在多個工業領域得到了廣泛應用。無論是電子元器件、金屬材料與合金、食品與藥品包裝,還是光學材料與鏡片、精密儀器與零部件等,真空充氮烤箱都以其出色的防氧化能力和精確的溫度控制,為產品的高質量生產提供了有力保障。隨著科技的不斷進步和工業生產的不斷發展,真空充氮烤箱的應用前景將更加廣闊。

       


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